°ñÀç¿¡¼ ¹Ì¼¼ÇÑ ¸ð·¡¸¦ ¼±º°ÇØ ³»´Â ü(sieve)ó·³ Áö±¸¿Â³ÈÀÇ ¿øÀÎÀÎ ÀÌ»êÈź¼Ò¸¸ ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î ºÐ¸®ÇØ ³»´Â Á¦¿Ã¶óÀÌÆ® ºÐ¸®¸· Á¦Á¶ ±â¼úÀ» ±¹³» ¿¬±¸ÁøÀÌ °³¹ßÇß´Ù.
ÇâÈÄ ÇØ´ç ±â¼ú °³¹ßÀÌ ¿Ï¼ºµÇ¾î ‘ÀÌ»êÈź¼Ò Æ÷Áý ¹× ó¸® ±â¼ú(CCS)’¿¡ Àû¿ëµÉ °æ¿ì, ±âÁ¸ ±â¼ú ´ëºñ ¿¡³ÊÁö ¼Ò¸ð°¡ Çö°ÝÈ÷ °¨¼ÒµÇ¾î ÀÌ»êÈź¼Ò Æ÷Áý ºñ¿ëÀ» ÇöÀç ¼öÁØÀÇ 1/3 ÀÌÇÏ·Î ÁÙÀÏ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ±â´ëµÈ´Ù.
CCS´Â ÀÌ»êÈź¼Ò ´ë·®¹ß»ý¿ø(ȷ¹ßÀü¼Ò, Á¦Ã¶¼Ò, ¼®À¯ÈÇаøÀå µî)¿¡¼ ¹ß»ýÇÏ´Â ÀÌ»êÈź¼Ò¸¦ °ø±â Áß¿¡ ¹èÃâµÇ±â Àü¿¡ Æ÷ÁýÇÑ ÈÄ ¾ÐÃà·¼ö¼ÛÇÏ¿© ÀúÀåÇϰųª À¯¿ë¹°Áú·Î ÀüȯÇÏ´Â ±â¼úÀÌ´Ù.
°í·Á´ë ÃÖÁ¤±Ô ±³¼öÆÀÀÌ ÁÖµµÇÑ À̹ø ¿¬±¸´Â ¹Ì·¡Ã¢Á¶°úÇкÎ(Àå°ü ÃÖ¹®±â)¿Í (Àç)Çѱ¹ÀÌ»êÈź¼ÒÆ÷Áý¹×󸮿¬±¸°³¹ß¼¾ÅÍ(¼¾ÅÍÀå ¹Ú»óµµ)ÀÇ Áö¿øÀ¸·Î ÀÌ·ç¾îÁ³À¸¸ç, ¿¬±¸ ³í¹®Àº ÈÇÐºÐ¾ß Àú¸í ÇмúÁöÀÎ ‘¾Ó°Ô¹ÝÅ× ÄɹÌ(Angewandte Chemie)’ 10ÀÏÀÚ ¿Â¶óÀÎÆÇ¿¡ °ÔÀçµÇ¾ú´Ù.
* (³í¹®¸í) Uniform Si-CHA Zeolite Layers Formed by a Selective Sonication-Assisted Deposition Method
ÇöÀç ÀÌ»êÈź¼Ò¸¦ Æ÷ÁýÇÏ´Â ±â¼úÀº Å©°Ô ½À½Ä, °Ç½Ä, ºÐ¸®¸· Æ÷Áý±â¼ú µîÀ¸·Î ³ª´©¾îÁö¸ç, ÀÌÁß ºÐ¸®¸· ±â¼úÀº ½À½Ä·°Ç½Ä¿¡ ºñÇØ ÄÞÆÑÆ®ÇÑ °øÁ¤ ±¸ÇöÀÌ °¡´ÉÇÏ¿© ÀÌ»êÈź¼Ò Æ÷Áýºñ¿ëÀ» Çõ½ÅÀûÀ¸·Î ³·Ãâ ¼ö ÀÖ´Â À¯¸Á ±â¼ú·Î Àνĵǰí ÀÖ´Ù.
Á¦¿Ã¶óÀÌÆ®¸¦ ºÐ¸®¸·À¸·Î »ç¿ëÇÏ´Â °³³äÀº ¿À·¡ ÀüºÎÅÍ Á¦½ÃµÇ¾î ¿ÔÀ¸³ª, Á¦¿Ã¶óÀÌÆ®ÀÇ ºñ±ÕÁúÀûÀÎ ¹°Áú Ư¼ºÀ¸·Î ÀÎÇØ ±ÕÀÏÇÑ ºÐ¸®¸·À» ¸¸µå´Â °ÍÀÌ ³Á¦·Î ¿©°ÜÁ® ¿Ô´Ù.
ÃÖÁ¤±Ô ±³¼öÆÀÀº À̸¦ ÇØ°áÇϱâ À§ÇØ ÀÌ»êÈź¼Ò¿Í Å©±â°¡ À¯»çÇÑ ±â°ø Å©±â¸¦ °®´Â CHA ŸÀÔÀÇ Á¦¿Ã¶óÀÌÆ®¿¡ ÃÊÀ½Æĸ¦ Àû¿ëÇÏ¿© ±ÕÀÏÇÑ Á¦¿Ã¶óÀÌÆ® ÃþÀ» Çü¼ºÇϴµ¥ ¼¼°è ÃÖÃÊ·Î ¼º°øÇß´Ù.
* ÀÌ»êÈź¼Ò Å©±â 0.33nm, CHA ŸÀÔ Á¦¿Ã¶óÀÌÆ®ÀÇ ±â°øÅ©±â 0.37nm(1nm=10¾ïºÐÀÇ 1m)
ÀÌ´Â Á¤À°¸éü ÇüÅÂ¿Í ³³ÀÛÇÑ ÇüÅ°¡ È¥ÀçÇÑ CHA ŸÀÔÀÇ Á¦¿Ã¶óÀÌÆ®¿¡ ÃÊÀ½ÆÄ Ã³¸®¸¦ ÅëÇØ ³³ÀÛÇÑ ÇüÅÂÀÇ ÀÔÀÚ¸¸À» ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î ÁõÂø½ÃŲ °á°úÀÌ´Ù.
¿¬±¸ÁøÀº µÎ²² 1μm ¼öÁØÀÇ ¹Ú¸· Á¦Á¶, ¼öºÐ¿¡ ´ëÇÑ ¾ÈÁ¤¼º È®º¸ ¹× ´ë¸éÀûÈ µî Á¦¿Ã¶óÀÌÆ® ºÐ¸®¸·ÀÇ »ó¿ëȸ¦ À§ÇØ ÇØ°áÇØ¾ß ÇÒ Ãß°¡ ¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÒ °èȹÀÌ´Ù.
¹Ú»óµµ ¼¾ÅÍÀåÀº “ÀþÀº ¿¬±¸ÀÚÀÇ Æбâ¿Í ¿Á¤À¸·Î ªÀº ½Ã°£³»¿¡ ÁÁÀº ¿¬±¸ ¼º°ú°¡ µµÃâµÇ¾î ±â»Ú´Ù” ¸é¼ “À̹ø ¿¬±¸ ¼º°ú´Â ¹è°¡½º ÁßÀÇ ÀÌ»êÈź¼Ò ºÐ¸®¸¦ À§ÇÑ Á¦¿Ã¶óÀÌÆ® ºÐ¸®¸·ÀÇ °¡´É¼ºÀ» È®ÀÎÇß´Ù´Â Á¡¿¡¼ ±× Àǹ̰¡ ¸Å¿ì Å©´Ù”°í ¸»Çß´Ù.
Ãâó: ¹Ì·¡Ã¢Á¶°úÇкÎ