»ï¼ºÀüÀÚ°¡ 8ÀÎÄ¡(200mm) ¿þÀÌÆÛ¸¦ È°¿ëÇÑ ÆÄ¿îµå¸® ¼Ö·ç¼ÇÀ» È®´ëÇØ °í°´ Áö¿ø °È¿¡ ³ª¼±´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ´Â 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½º Á¦Ç° ±ºÀ» ±âÁ¸ 4Á¾¿¡¼ 6Á¾À¸·Î È®´ëÇÏ°í, 180³ª³ëºÎÅÍ 65³ª³ë±îÁö °¢ Á¦Ç°¿¡ Æ¯ÈµÈ ¹Ì¼¼°øÁ¤ ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦°øÇØ °í°´ÀÇ Á¦Ç° ¿Ï¼ºµµ¿Í ÆíÀǼºÀ» Çâ»ó½Ãų °èȹÀÌ´Ù.
ÀÌ·Î½á »ï¼ºÀüÀÚ´Â ¡âÀÓº£µðµå Ç÷¡½Ã ¸Þ¸ð¸®(eFlash) ¡âÀü·Â ¹ÝµµÃ¼(PMIC) ¡âµð½ºÇ÷¹ÀÌ µå¶óÀ̹ö IC(DDI) ¡âCMOS À̹ÌÁö ¼¾¼(CIS)ÀÇ 4°¡Áö ¼Ö·ç¼Ç ¿Ü ¡âRF/IoT¿Í ¡âÁö¹®ÀÎ½Ä ¼¾¼¸¦ Ãß°¡ÇÔÀ¸·Î½á ÃÑ 6°³ÀÇ Æ¯ÈµÈ 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦°øÇÏ°Ô µÇ¾ú´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷ºÎ ¸¶ÄÉÆÃÆÀÀå ÀÌ»óÇö »ó¹«´Â “8ÀÎÄ¡ ¼Ö·ç¼ÇÀ» È®´ëÇØ ´õ ¸¹Àº °í°´µé¿¡°Ô »ï¼ºÀüÀÚÀÇ Â÷º°ÈµÈ ¼Ö·ç¼ÇÀ» È°¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô Çß´Ù”¸ç “³ôÀº ¿Ï¼ºµµÀÇ °øÁ¤±â¼ú°ú ´Ù¾çÇÑ ¿ä±¸¸¦ ¸¸Á·½Ãų ¼ö ÀÖ´Â MPW ÇÁ·Î±×·¥, IP(¼³°èÀÚ»ê) Á¦°ø µîÀ» ÅëÇØ °í°´ Áß½ÉÀÇ ¼ºñ½º¸¦ °ÈÇÏ°Ú´Ù”°í ¹àÇû´Ù.
*MPW(Multi Project Wafer) : ´ÙÇ°Á¾ ¼Ò·® »ý»êÀ» À§ÇÑ ÆÄ¿îµå¸® ÇüÅ·ΠÇÑ ÀåÀÇ ¿þÀÌÆÛ¿¡ ´Ù¸¥ Á¾·ùÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Ç°À» ÇÔ²² »ý»êÇÏ´Â ¹æ½Ä
»ï¼ºÀüÀÚ´Â ±âÈï Ä·ÆÛ½º 6¶óÀο¡ 8ÀÎÄ¡ ¶óÀÎÀ» ¿î¿µÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç ´Ù³â°£ ÃàÀûµÈ »ý»ê ³ëÇÏ¿ì¿Í ÀÚµ¿È ½Ã½ºÅÛÀ» ÅëÇØ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°±ºÀÇ ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÏ°í ÀÖ´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷ºÎ´Â 2017³â 5¿ù »ç¾÷ºÎ Ãâ¹ü ÀÌÈÄ ¹Ì±¹, À¯·´, ÀϺ» µîÁö¿¡¼ ÆÄ¿îµå¸® Æ÷·³À» ¿°í ±Û·Î¹ú °í°´µéÀ» ´ë»óÀ¸·Î ÃÖ÷´Ü ¹Ì¼¼°øÁ¤ ·Îµå¸Ê°ú 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷À» ¼Ò°³ÇØ¿À°í ÀÖ´Ù.
¶ÇÇÑ °í°´ÀÌ º¸´Ù ½±°í ºü¸£°Ô Á¦Ç°À» ¼³°èÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï ÇÏ´Â ‘SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)’ ÇÁ·Î±×·¥À» ¿î¿µÇÏ´Â µî °í°´°ú Çù·ÂÀ» °ÈÇÏ°í ÀÖ´Ù.